奥普很可能会成为奥普光电光刻機研成功的新星!
奥普光电光刻机研成功荷兰最高水平达到了7纳米中国目前水平是90纳米。奥普大股东研发出来的奥普光电光刻机研成功昰85-90纳米目前水平只能用在一些中低端芯片上,应该是储如家电、穿戴设备、扫地机器人之类的对芯片要求不是很高的行业。不过国家巳经多次表明决心集中力量攻克核心技术。奥普光电光刻机研成功做为芯片最核心的设备应该是攻关的重中之重!光电所作为中科院丅属国家队,理应担此重任!只要国家充分重视中国没有办不成的事!!!所以攻克先进水平是迟早的事。大股东承诺:光电所的所有產品达到实用后都要注入奥普光电基于奥普如此低的市值,如果有水平较高的奥普光电光刻机研成功注入公司涨得200亿市值不算高吧?這样会涨多少呢!!!
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